半導體含硅廢水如何達標排放？作為5G反戰后的新興行業半導體得到了大力的發展，大大小小的工廠在全國各地建成，頻發的污染問題也讓半導體廢水成了近些年環保新賽道。

一、含硅廢水達標標準

半導體生產過程中會用大量化學物質和重金屬，廢水以含氟廢水、含銅廢水、含氨廢水為主，水質整體復雜，污染物含量較高，對環境有較大污染。

怎樣才算廢水達標呢？根據半導體行業污染物排放標準，文件對廢水中的重金屬鎘、鉻、砷、鉛、鎳、銀有明確標注排放濃度，氧化物、硫化物、氰化物、懸浮物、COD、BOD、氨氮、有機碳的日均值也做出明確規定。

二、含硅廢水處理裝置

通過分析半導體工廠排出的廢水，我們了解到料液呈堿性，水中含硅量較高，高溫條件下對金屬材質有較強的化學腐蝕性。根據上述情況和半導體行業污染物排放標準，方案設計為綜合工藝由除硅、濃縮兩部分組成。

濃縮部分是回收資源和廢水處理的關注點，因為高溫蒸發物料存在腐蝕危險，所以選擇了蒸發溫度較低但效率高又節能的MVR蒸發技術，通過對蒸發產生的二次蒸汽進行升壓升溫二次利用，達到一個循循環穩定的蒸發情況，物料能在低溫下穩定蒸發，不僅能減少熱源消耗，接觸面腐蝕問題還能減少含硅物料的結垢問題。

完成蒸發后的廢水進行固液分離，得到的結晶體排出設備外，濃液繼續返回處理裝置中，蒸汽則冷凝成水收集再利用。

三、含硅廢水處理裝置優勢

綜合來說含硅廢水處理設備能達到環保要求，回收的資源能在工廠內得到實際再利用，整套設備的性價比較高，配備自動控制系統，耐負荷、占地面積小、穩定性高、運行成本低工藝成熟且節能。

來源：MVR蒸發器廠家-青島康景輝m.4006768026.cn